Aluminum nitride HTCC substrate
Aluminum nitride HTCC substrate

Aluminiumnitrid-HTCC-Substrat AlN-HTCC-Substrat

Das Aluminiumnitrid-HTCC-Substrat besteht aus Aluminiumnitrid als Rohmaterial mit präziser Dicke und guter Verdichtung der rohen Keramikplatte unter Verwendung von Wolfram-, Molybdän-, Mangan- und anderen Metallschlämmen, und der entworfene Schaltplan wird durch Mikrobohren auf der rohen Keramikplatte gebildet -Lochverfugen, Drucken und andere Prozesse, und dann zusammenlaminieren und bei 1500°C ~ 1850°C gesintert. Schließlich wird durch Galvanisieren, Hartlöten und andere Prozesse eine monolithische Struktur eines dreidimensionalen Verkabelungssystems gebildet. Das Aluminiumnitrid-HTCC-Substrat verfügt über eine hohe mechanische Festigkeit, eine gute Wärmeableitungsleistung, eine hohe Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit sowie eine hohe Verdrahtungsdichte und eignet sich für elektronische Komponenten, die in einer Umgebung mit hohen Temperaturen arbeiten müssen, mit hohen Anforderungen an die thermische Stabilität und großer Leistung.

  • Marke:

    ATCERA
  • Artikelnr.:

    AT-DIP04C
  • Materialien

    AlN
  • Formen

    Substrate
  • Anwendungen

    Semiconductor , Electronics and Electricity
Aluminum nitride HTCC substrate

Eigenschaften von Aluminiumnitrid HTCC-Substrat

1. Das Aluminiumnitrid-HTCC-Substrat verfügt über eine hohe Temperaturbeständigkeit, eine gute thermische Stabilität, einen kleinen Wärmeausdehnungskoeffizienten und kann den normalen Betrieb von Komponenten in einer Umgebung mit hohen Temperaturen gewährleisten;

2. Das Aluminiumnitrid-HTCC-Substrat hat eine gute Wärmeleitfähigkeit, kann die Anforderungen einer Verkabelung mit hoher Dichte erfüllen und ist für große Leistungskomponenten geeignet;

3. Das Aluminiumnitrid-HTCC-Substrat weist eine hohe mechanische Festigkeit, gute Schlagfestigkeit und Verschleißfestigkeit auf und ist außerdem beständig gegen Säure, Alkali und chemische Korrosion.

Applications of AlN Substrate

Anwendungen von AlN HTCC-Substrat

Das Aluminiumnitrid-HTCC-Substrat eignet sich für elektronische Komponenten, die in einer Umgebung mit hohen Temperaturen arbeiten müssen, mit hohen Anforderungen an die thermische Stabilität und großer Leistung und wird normalerweise als Substrat für die Verpackung von Hochspannungs- und Hochleistungsgeräten, einschließlich Leistungsmodulen und Hochfrequenzschaltungen, verwendet Stromversorgung, Relais, Kommunikationsmodul, LED-Modul usw., weit verbreitet in Fahrzeugen mit neuer Energie, Schienenverkehr, Smart Grid, Luft- und Raumfahrt und anderen Bereichen.

Anpassungsdesign für AlN HTCC-Substrat

Wir sind bestrebt, erstklassige Aluminiumnitrid-HTCC-Substrate zu liefern, die genau auf Ihre Spezifikationen zugeschnitten sind. Unser engagiertes Team sorgt für die sorgfältige Einhaltung Ihrer Anweisungen und ist bestrebt, die Erwartungen der Kunden zu übertreffen. Darüber hinaus bieten wir die Flexibilität kundenspezifischer Größen, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden.

Geben Sie das Substratdiagramm, das PCB-Designdiagramm sowie das Metallmaterial, die Schichtnummer, die Dicke und andere notwendige Parameter an.

Bitte erkundigen Sie sich bei ATCera nach Informationen oder Anfragen.

AlN HTCC substrate

Technische Daten von Aluminiumnitrid-Materialien

AlN-Typ ALN-170 ALN-200
ALN-230
Dichte (g/cm3) 3.3 3,28 3,25
Biegefestigkeit (MPa) 450 400 350
Young-Modul (GPa) 320 / /
Härte (Hv) 1100 1100
1100
Bruchzähigkeit (MPa*m1/2) 3 2,6 2.4
Maximale Arbeitstemperatur (â) 1100 1100
1100
Wärmeleitfähigkeit (W/m*K) 180 200
230
Wärmeausdehnungskoeffizient (/â) 4*10-6 4*10-6
4*10-6
Dielektrizitätskonstante (bei 1 MHz) 9 8,7
8,5
Durchbruchspannung (kV/mm) >15 >15
>15

*Diese Tabelle veranschaulicht die Standardeigenschaften der Aluminiumnitridmaterialien, die üblicherweise bei der Herstellung unserer AlN-Produkte und -Teile verwendet werden. Bitte beachten Sie, dass die Eigenschaften kundenspezifischer Aluminiumnitrid-Produkte und -Teile je nach den spezifischen Prozessen variieren können. Detaillierte Parameter werden durch Art und Zusammensetzung des Stabilisierungsmittels bestimmt.

Wertvolle Informationen

AlN HTCC Substrate Packing

AlN HTCC-Substrat Verpackung

Aluminiumnitrid-HTCC-Substrate werden sorgfältig in geeigneten Behältern verpackt, um mögliche Schäden zu vermeiden.

Vorteile der Anpassung
Vorteile der Anpassung

1. Analysieren Sie entsprechend Ihrem Anwendungsszenario den Bedarf und wählen Sie das entsprechende Material und den Verarbeitungsplan aus.

2. Professionelles Team, schnelle Reaktion, kann innerhalb von 24 Stunden nach Bestätigung der Nachfrage Lösungen und Angebote bereitstellen.

3. Flexibler Mechanismus für die geschäftliche Zusammenarbeit, unterstützt mindestens eine Mengenanpassung.

4. Stellen Sie schnell Muster und Testberichte zur Verfügung, um zu bestätigen, dass das Produkt Ihren Anforderungen entspricht.

5. Unterbreiten Sie Produktnutzungs- und Wartungsvorschläge, um Ihre Nutzungskosten zu senken.

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Absolut. Unser technisches Team verfügt über fundierte Kenntnisse über keramische Materialien und umfangreiche Erfahrung im Produktdesign. Gerne beraten wir Sie bei der Materialauswahl und unterstützen Sie beim Produktdesign, um die optimale Leistung Ihrer Produkte sicherzustellen.

Bei uns gibt es keinen festen Mindestbestellwert. Wir konzentrieren uns stets darauf, die Bedürfnisse unserer Kunden zu erfüllen, und sind bestrebt, unabhängig von der Bestellgröße qualitativ hochwertige Dienstleistungen und Produkte anzubieten.

Neben Keramikprodukten bieten wir auch eine Reihe zusätzlicher Dienstleistungen an, darunter unter anderem: maßgeschneiderte Keramikverarbeitungsdienstleistungen basierend auf Ihren Bedürfnissen unter Verwendung von selbst hergestellten Rohlingen oder Halbzeugrohlingen; Wenn Sie an ausgelagerten Keramikverpackungs- und Metallisierungsdienstleistungen interessiert sind, kontaktieren Sie uns bitte für weitere Gespräche. Wir sind stets bestrebt, Ihnen eine Lösung aus einer Hand zu bieten, die Ihren unterschiedlichen Anforderungen gerecht wird.

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