Silicon carbide ceramic wafer
Silicon carbide ceramic wafer
Silicon carbide ceramic wafer
Silicon carbide ceramic wafer
Silicon carbide ceramic wafer

Siliziumkarbid-Wafer SiC-Wafer

Siliziumkarbid-Wafer, eine neue Generation von Halbleitermaterialien, können zur Herstellung einer Vielzahl elektronischer Geräte verwendet werden, wie z. B. Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistoren (MOSFET), Schottky-Diode, Fotodiode usw.

  • Marke:

    ATCERA
  • Artikelnr.:

    AT-SIC-JP001N
  • Materialien

    SiC
  • Formen

    Substrate
  • Anwendungen

    Semiconductor
Silicon carbide ceramic wafer

Eigenschaften von Siliziumkarbid-Wafern

Elektronische Komponenten auf Siliziumkarbidbasis haben eine gute Wärmeableitung, eine hohe elektrische Leitfähigkeit, eine hohe elektrische Feldstärke beim Durchbruch, eine große Energielücke, eine gute Korrosionsbeständigkeit, können die Anforderungen von Hochleistungs-, Verlust- und Hochfrequenzkomponenten erfüllen und lange aufrechterhalten Langfristig stabile Leistung in rauen Umgebungen.

1. Geringer Energieverlust: Der Schaltverlust und der Ein-Aus-Verlust von Siliziumkarbidmodulen sind deutlich geringer als bei herkömmlichen IGBT-Modulen, und mit zunehmender Schaltfrequenz ist der Verlustunterschied beim IGBT-Modul umso größer;

2. Kleine Packungsgröße: Elektronische Komponenten aus Siliziumkarbid sind kleiner als siliziumbasierte Komponenten derselben Spezifikation und weisen einen geringeren Energieverlust auf, sodass sie eine höhere Stromdichte bieten können;

3. Hochfrequenzschaltung: Die elektronische Sättigungsdriftrate von Siliziumkarbidmaterial ist doppelt so hoch wie die von Silizium, was zur Verbesserung der Betriebsfrequenz von Komponenten beiträgt;

4. Hohe Temperaturbeständigkeit, gute Wärmeableitung: Die Bandlückenbreite und Wärmeleitfähigkeit von Siliziumkarbid ist etwa dreimal so groß wie die von Silizium, sodass es höheren Temperaturen standhält und die erzeugte Wärme leichter abgeführt werden kann, was die Miniaturisierung und das geringe Gewicht des Systems begünstigt .

Applications of SiC wafer

Anwendungen von SiC-Wafern

Siliziumkarbid-Komponenten können die Anforderungen von Hochtemperatur, Hochspannung, Hochfrequenz und großer Leistung besser erfüllen und werden häufig in Elektrofahrzeugen, Photovoltaik-Stromerzeugung, Schienenverkehr, Rechenzentren, Ladesäulen und anderen Produkten und Geräten eingesetzt .

1. Hochleistungsgeräte (leitender Typ): Die Siliziumkarbidkomponente weist eine hohe Wärmeleitfähigkeit, eine hohe elektrische Durchbruchfeldstärke und einen geringen Energieverlust auf und eignet sich für die Herstellung von Hochleistungsgeräten wie Leistungsmodulen, Antriebsmodulen usw.

2. Elektronische Hochfrequenzgeräte (halbisolierter Typ): Siliziumkarbidkomponente hat eine hohe Leitfähigkeit, kann die Anforderungen von Hochfrequenzarbeiten erfüllen und ist für HF-Leistungsverstärker, Mikrowellengeräte und Hochfrequenzschalter geeignet;

3. Fotoelektronische Geräte (halbisolierter Typ): Siliziumkarbid-Komponente hat eine große Energielücke und hohe thermische Stabilität, geeignet für die Herstellung von Fotodioden, Solarzellen und Laserdioden und anderen Geräten;

4. Temperatursensor (leitender Typ): Die Siliziumkarbidkomponente weist eine hohe Wärmeleitfähigkeit und thermische Stabilität auf und eignet sich für die Herstellung von Temperatursensoren mit großem Arbeitsbereich und hoher Präzision.

Größentabelle für Siliziumkarbid-Wafer

Wir sind bestrebt, optimale Siliziumkarbid-Wafer zu liefern, die genau auf Ihre Spezifikationen zugeschnitten sind. Unser engagiertes Team sorgt für die sorgfältige Einhaltung Ihrer Anweisungen und ist bestrebt, die Erwartungen der Kunden zu übertreffen. Darüber hinaus bieten wir die Flexibilität kundenspezifischer Größen, um Ihren individuellen Anforderungen gerecht zu werden.

Größe, Materialparameter und Verarbeitungsanforderungen müssen angegeben werden, wenn ein individuelles Design gewünscht wird.

Bearbeitungstoleranz:
1. Durchmesser: ±0,25 mm
2. Dicke: ±25 μm
3. Kristallorientierung: <001> ±0,5°
4. Ausrichtung der Kristallfläche: ±0,5°
5. Kantenausrichtung: ≤2°
Andere Parameter kontaktieren Sie bitte ATCERA.

Drawing of Silicon Carbide Wafer Conductive

Siliziumkarbid-Wafer leitfähig
Artikel-Nr. Durchmesser
(Zoll)
Dicke
(mm)
AT-SIC-JP001N2 0,35
AT-SIC-JP002N 3 0,35
AT-SIC-JP003N 4 0,35
AT-SIC-JP004N 6 0,35
AT-SIC-JP005N 2 0,5
AT-SIC-JP006N 3 0,5
AT-SIC-JP007N 4 0,5
AT-SIC-JP008N 6 0,5

Drawing of SiC Substrate Round

SiC-Substrat rund
Artikel-Nr. Durchmesser
(Zoll)
Dicke
(mm)
AT-SIC-CD101 2 2
AT-SIC-CD102 3 3
AT-SIC-CD103 4 4
AT-SIC-CD104 6 2
AT-SIC-CD105 8 3

Technische Daten von Silizium-Karbid Materialien

Artikel Einheit Indexdaten
Reaktionsgesintertes SiC
(SiSiC)
Mit SiC gebundenes Siliziumnitrid
(NBSiC)
Gesintertes SiCn ohne Druck
(SSiC)
SiC-Gehalt % 85 80 99
Kostenloser Siliziuminhalt % 15 0 0
Max. Service-Temp. â 1380 1550 1600
Dichte g/cm3 3.02 2,72 3.1
Porosität % 0 12 0
Biegefestigkeit 20â Mpa 250 160 380
1200â Mpa 280 180 400
Elastizitätsmodul 20â Gpa 330 220 420
1200â Gpa 300 / /
Wärmeleitfähigkeit 1200â W/m.k 45 15 74
Wärmeausdehnungskoeffizient K-1×10-6 4,5 5 4.1
Vickers-Härte HV kg/mm2 2500 2500 2800

*Diese Tabelle veranschaulicht die Standardeigenschaften der Siliziumkarbidmaterialien, die üblicherweise bei der Herstellung unserer SiC-Produkte und -Teile verwendet werden. Bitte beachten Sie, dass die Eigenschaften kundenspezifischer Siliziumkarbidprodukte und -teile je nach den spezifischen Prozessen variieren können.

Saubere Methoden

Siliziumkarbid-Wafer müssen vor der Verwendung gereinigt werden, um Schmutz und Verunreinigungen auf der Oberfläche zu entfernen.
1. Legen Sie den Siliziumkarbid-Wafer in destilliertes Wasser, lassen Sie ihn eine Zeit lang einweichen und wischen Sie die Oberfläche dann vorsichtig mit einem weichen Tuch ab, bevor Sie ihn herausnehmen;
2. Geben Sie ein chemisches Reinigungsmittel hinein, lassen Sie es eine Zeit lang einweichen und nehmen Sie es dann heraus;
3. Nehmen Sie den gereinigten Siliziumkarbid-Wafer heraus, spülen Sie die Oberfläche mit Wasser ab, nehmen Sie ihn dann heraus und trocknen Sie ihn;
4. Vermeiden Sie beim Reinigungsprozess zu starke mechanische Reibung oder hohe Erwärmung und stellen Sie sicher, dass die Reinigungsumgebung und die Werkzeuge sauber sind, um Verschmutzung zu vermeiden.

Wertvolle Informationen

SiC Substrate Packing

SiC-Substratverpackung

SiC-Substrate werden sorgfältig in geeigneten Behältern verpackt, um mögliche Schäden zu vermeiden.

Vorteile der Anpassung
Vorteile der Anpassung

1. Analysieren Sie entsprechend Ihrem Anwendungsszenario den Bedarf und wählen Sie das entsprechende Material und den Verarbeitungsplan aus.

2. Professionelles Team, schnelle Reaktion, kann innerhalb von 24 Stunden nach Bestätigung der Nachfrage Lösungen und Angebote bereitstellen.

3. Flexibler Mechanismus für die geschäftliche Zusammenarbeit, unterstützt mindestens eine Mengenanpassung.

4. Stellen Sie schnell Muster und Testberichte zur Verfügung, um zu bestätigen, dass das Produkt Ihren Anforderungen entspricht.

5. Unterbreiten Sie Produktnutzungs- und Wartungsvorschläge, um Ihre Nutzungskosten zu senken.

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