Ultraviolette Quarzröhre besteht aus einem Material mit 100–200 ppm Titanoxid, gemischt mit reinem Quarz, das ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von weniger als 220 nm blockieren kann, und die ultraviolette Durchlässigkeit bei 253,7 nm beträgt mehr als 70 % und das ultraviolette Licht davon Wellenlänge hat eine starke bakterizide Kraft, um verschiedene bakterizide Lampen zu erzeugen.

Die Filter-UV-Quarzröhre basiert auf reinem Quarzglas, um Cer und andere Elemente zu infiltrieren, so dass sie UV-Strahlung (Wellenlänge 190–320 nm) wirksam blockieren kann, während die Durchlässigkeit von sichtbarem Licht so weit wie möglich erhalten bleibt.

Das Doppelschicht-Quarzrohr besteht aus einem inneren Quarzrohr und einer an der Außenwand des inneren Quarzrohrs angeschweißten Kühlhülse. An der Kühlhülse befinden sich ein Kühlwassereinlass und ein Kühlwasserauslass, um die Flüssigkeit im inneren Quarzrohr abzukühlen.

Das Quarzdiffusionsofenrohr hat ein Ende offen und das andere Ende ist geschlossen. In der Mitte des geschlossenen Endes befindet sich ein Gasansaugrohr und am offenen Ende befindet sich ein Flansch, um die Dichtfläche und damit die Dichtwirkung zu vergrößern. Es ist eine der Kernstrukturen des Diffusionsofens, der im Diffusionsprozess von Halbleiterwafern und Solarzellen-Siliziumwafern verwendet wird.

Das Quarzwaferboot besteht aus hochreinem Quarz, einem Schlüsselbestandteil in Anlagen zur Herstellung von Halbleiterwafern und Photovoltaikzellen, die zum Laden von Halbleiterwafern oder Solarwafern für die Diffusions- und Oxidationsbehandlung in Diffusionsöfen verwendet werden.

Die Quarz-Wafer-Boot-Halterung ist eine Schlüsselkomponente in Anlagen zur Herstellung von Halbleiter-Wafern und Photovoltaikzellen. Sie wird verwendet, um ein Quarzboot zu tragen, das Wafer oder Solarsiliziumzellen für die Diffusions- und Oxidationsbehandlung in einem Diffusionsofen enthält.

Der Quarztank besteht aus hochreinem Quarz mit hoher Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit sowie ausgezeichneter thermischer und chemischer Stabilität. Er wird beim Nassätzen und Wafer-Reinigen für die Halbleiter- und Photovoltaikzellenproduktion verwendet.

Der transparente Quarztiegel besteht aus hochreinem Quarz als Rohstoff, der SiO2-Gehalt beträgt nicht weniger als 99,98 %. Es verfügt über eine ausgezeichnete thermische Stabilität und Lichtdurchlässigkeit, eine gute Isolierung, hohe Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit und wird häufig bei der Herstellung von experimentellen Instrumenten und optischen Instrumenten sowie bei der Analyse von Metall- und nichtmetallischen Materialien verwendet.